Resumen

RENDON, G.; POOT, P.; OLIVA, A. l.  y  ESPINOSA-FALLER, F. J.. A Simple Substrate Heater Device With Temperature Controller for Thin Film Preparation. J. appl. res. technol [online]. 2012, vol.10, n.4, pp.549-556. ISSN 2448-6736.

Se presenta el diseño y la fabricación de un calentador de sustratos con control de temperatura para preparar películas delgadas en un sistema de depósito de alto vacío. El calentador de sustratos fue elaborado usando vitrocerámica y una lámina de molibdeno como elemento calefactor. La energía aplicada y la temperatura del calentador de sustrato son controladas a través de una tarjeta controladora de potencia usando un microcontrolador programado con un algoritmo basado en un sistema de control proporcional-integral-derivativo. El sistema calentador/controlador propuesto fue evaluado a las temperaturas de 100, 200, 300 y 400 °C. El sistema proporciona una regulación de temperatura menor a ±0.5 °C para todas las temperaturas evaluadas. La aplicabilidad del calentador de sustratos se demostró depositando películas delgadas de oro sobre sustratos de vidrio calentados.

Palabras llave : substrate heater; temperature controller; vacuum thin film deposition.

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