Resumo

MONTES DE OCA, J.A. et al. Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering. Rev. mex. fis. [online]. 2010, vol.56, n.2, pp.118-124. ISSN 0035-001X.

En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante la técnica rf-sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti₃Al en una cámara con atmósfera de Ar-O₂. Las películas de Ti-Al-O fueron obtenidas variando parámetros experimentales, tales como el porcentaje de oxígeno alimentado a la cámara de reacción, la densidad de potencia del plasma y la temperatura del sustrato. Las películas depositadas sobre sustratos de vidrio fueron utilizadas para evaluar las propiedades ópticas, mientras que las películas crecidas sobre sustratos de Si fueron empleadas para determinar las propiedades mecánicas y morfológicas. La estructura cristalina, morfología, composición química y propiedades ópticas de las películas fueron evaluadas mediante difracción de rayos X (DRX), microscopía electrónica de barrido de alta resolución (MEB-AR), espectroscopia de electrones Auger (EEA) y espectroscopia UV visible (UV-VIS). El espesor de las películas fue evaluado usando un perfilómetro mecánico. La rugosidad y las propiedades mecánicas, tales como dureza y módulo de elasticidad reducido, fueron analizadas mediante microscopía de fuerza atómica (MFA) y nanoindentación, respectivamente.

Palavras-chave : Películas delgadas; rf-sputtering; sistema Ti-Al-O.

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