Resumo

RAMIREZ-ORTIZ, Jorge et al. Deposición selectiva de cobre utilizando CVD. Rev. Soc. Quím. Méx [online]. 2000, vol.44, n.4, pp.266-269. ISSN 0583-7693.

La deposición química de vapor (CVD) es una técnica que se ha utilizado con éxito para obtener películas metálicas delgadas de cobre. Adicionalmente, mediante el tratamiento previo del substrato se puede depositar selectivamente, esto es, recubrir sólo aquellas regiones predeterminadas del substrato. En este trabajo se presentan los resultados de la producción in situ de semillas de algunos metales empleados con éxito en el depósito selectivo de Cu sobre obleas de silicio.

Palavras-chave : deposición química de vapor; CVD; deposición selectiva; cobre; película.