SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.24 número1Óxido de silicio SOG como dieléctrico de compuerta recocido a 200°CAnálisis por simulación molecular de las propiedades electrónicas de la hoja de SnC hexagonal índice de autoresíndice de assuntospesquisa de artigos
Home Pagelista alfabética de periódicos  

Serviços Personalizados

Journal

Artigo

Indicadores

Links relacionados

  • Não possue artigos similaresSimilares em SciELO

Compartilhar


Superficies y vacío

versão impressa ISSN 1665-3521

Resumo

VASQUEZ-A, M. A.; ROMERO-PAREDES, G.  e  PENA-SIERRA, R. Estudio del mecanismo de transporte en películas de silicio poroso. Superf. vacío [online]. 2011, vol.24, n.1, pp.5-8. ISSN 1665-3521.

The transport mechanisms in Porous Silicon Layer (PSL) were identified by Current-Voltage (I-V) measurements. The PSL was made by anodic etching of p-type crystalline (100) Si wafers and resistivity of 1-5 Ω-cm. The electrical resistivity measured of the PSL was of 4.48 x 109 Ω-cm. The carrier transport in the PSL is space charge limited (SCL) due to the trapped charge in the different defect states. Furthermore, it was found that in accordance with the bias mode and the magnitude of the applied bias to the structure, the change in the charge state of the deep defect centers cause changes in the trap density, Nt.

Palavras-chave : Porous silicon layers; Electrical characteristics; Space charge limited regime; Current transport mechanisms.

        · resumo em Espanhol     · texto em Espanhol

 

Creative Commons License Todo o conteúdo deste periódico, exceto onde está identificado, está licenciado sob uma Licença Creative Commons