Resumo

MORALES HERNANDEZ, Jorge et al. Characterization of Thin Films Deposited by Physical Vapor Deposition (PVD), Using Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Technique. J. Mex. Chem. Soc [online]. 2015, vol.59, n.4, pp.308-313. ISSN 1870-249X.

En el presente trabajo se evaluó el desempeño ante la corrosión de una película delgada de NiCu depositada por la técnica de Deposición de vapor física a dos diferentes tiempos de deposición. Los resultados de Espectroscopía de Impedancia Electroquímica en disolución de NaCl mostraron un aumento gradual de la resistividad como consecuencia de la degradación de la película (delaminación) para los dos tiempos, junto con la deposición de productos de corrosión generados sobre el recubrimiento por la recombinación de los óxidos del sustrato.

Palavras-chave : Corrosión; DC sputtering; Espectroscopía de Impedancia Electroquímica; Nanodefectos; Películas delgadas; PVD.