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Revista mexicana de física
versão impressa ISSN 0035-001X
Resumo
VILLEGAS, E.; PARRA, R. e RAMAJO, L.. Métodos de medición de espesores de películas delgadas basadas en óxidos semiconductores. Rev. mex. fis. [online]. 2018, vol.64, n.4, pp.364-367. ISSN 0035-001X.
Las películas transparentes basadas en óxidos de Ti, Sn y Zn tienen gran importancia en dispositivos electrónicos tales como sensores, celdas solares y películas conductoras haciendo que las técnicas de caracterización sean altamente relevantes. Este trabajo tiene como objetivo identificar las ventajas y desventajas de los métodos directos, tales como perfilometría e indirectos, elipsometría y espectrofotometría, para cuantificar espesores de películas delgadas de óxidos de Ti, Sn y Zn. Las películas se depositaron por spray-pyrolysis sobre sustratos de vidrio a 425°C. En todos los casos, los espesores obtenidos variaron entre 150 y 300 nm, con una diferencia inferior al 10% y 20% entre las técnicas espectrofotometría y elipsometría, respectivamente, con respecto al valor obtenido mediante perfilometría.
Palavras-chave : Películas delgadas; medidas de espesor; TiO2; SnO2; ZnO; 06; 78; 81.